氮气辅助氙离子束增强沉积TiN薄膜及其机械性能

摘要

本文提出一个合成TiN硬质薄膜的新方法,在氮气氛中,电子束蒸发沉积Ti的同时,用40keV的氙离子束对其进行轰击而合成TiN薄膜,该方法优于PVD和CVD之处在于合成温度低,薄膜与基体结合力强,其临界载荷达4.2kg,Knoop硬度达2200kg/mm^2,具有良好的耐磨损性能,报道了所合成的TiN薄膜在工业上应用的一些结果。