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张学华; 曹猛; 杨瑾; 刘桐; 王明霞; 邓湘云; 李德军;
天津师范大学物理与电子信息学院;
射频磁控溅射; TaN/VN多层膜; 调制周期;
机译:所需调制周期和比例下纳米级ReB 2 / TaN多层膜的界面模型和表征:第一性原理计算和实验研究
机译:调制周期对v / Vn纳米多层力学性能的影响
机译:调制周期对NbN / AlN纳米多层膜微结构,力学和摩擦学性能的影响
机译:调制周期对L1 0 IM> -Fept / Fe多层膜的磁性和结构性能的影响
机译:由调制的多层元素反应物合成的碲化铋-碲化钛层状纳米结构材料的基础研究。
机译:期望的调制周期和比例下的纳米级ReB2 / TaN多层膜的界面模型和表征:第一性原理计算和实验研究
机译:纳米级Reb2 / TAN多层在所需调制周期和比率的界面模型及表征:第一原理计算和实验研究
机译:纳米周期X射线多层膜的微结构 - 界面 - 性质关系
机译:一种用于设计和制造一种光学装置的方法,包括基于通过所述方法获得的基于纳米结构的非周期性基质的近场光学调制和光学器件的非周期性纳米结构的光学装置的光学装置
机译:基于可利用方法求得的包含纳米结构的非周期性矩阵的近场光学调制和光学器件的包括非周期性的纳米结构的光学器件的设计和制造方法
机译:多层膜VB2-VN
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