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王学毅; 徐岚; 唐绍根;
中国电子科技集团公司第二十四研究所;
超浅结; 快速热退火; 离子注入; 沟道效应; 瞬态增强扩散效应;
机译:亚浅100nm CMOS的未来是什么:超浅结或超薄SOI?
机译:先进的P + / N超浅结制造工艺引起的硼瞬态增强扩散研究
机译:低于100nm垂直MOSFET的支柱侧壁上的浅结
机译:超浅结的等离子体掺杂工艺研究
机译:超浅结形成过程中晶体硅中砷和氟行为的首要原理建模。
机译:单克隆抗体工艺中阴离子交换色谱操作的结垢:可视化和动力学研究
机译:异质结双极晶体管制作工艺流程的研究与优化。应用于高速设备
机译:在半导体晶片中形成超浅结的方法,该超浅结具有从气体前体沉积的硅层以减少水杨酸化过程中的硅消耗
机译:退火方法,超浅结层形成方法和超浅结层形成装置
机译:具有减小的薄层电阻的超浅p型结及其制造浅结的方法
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