退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
倪昊尹; 陈彩霞;
华东理工大学煤气化及能源化工教育部重点实验室;
多晶硅; 化学气相沉积; 数值模拟; 反应机理;
机译:化学气相沉积过程中多晶硅沉积特性的数值模拟
机译:气相扩散和表面反应是二异丙醇钛气溶胶辅助化学气相沉积TiO_2薄膜中的限制机制
机译:通过原子层化学气相沉积在表面反应过程中使用氧化剂组分增强有机发光器件的性能
机译:用Ti(NME {Sub} 2){sub} 4(TDMAT),NH {Sub} 3和SIH {Sub} 4的化学气相沉积过程中的气相化学过程中的化学气相化学
机译:等离子体过程中的表面反应增强了硅和硅基电介质的化学气相沉积。
机译:通过非催化气固(VS)机理对气敏SnO2和Au功能化SnO2纳米棒进行气溶胶辅助化学气相沉积
机译:沉积低应变LpCVD(低压,化学气相沉积)多晶硅
机译:化学气相沉积法,该化学气相沉积法是将化学气相沉积用作原料,并将化学气相沉积用于由有机钌化合物制成的原料
机译:通过气相沉积(即化学气相沉积(CVD)或压缩化学气相沉积(LPCVD))以及气体注入器,同时在半导体制造过程中同时涂覆多个晶圆的工具
机译:通过在多晶硅化学气相沉积过程中添加气相中的杂质来进行谷物工程
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。