热处理工艺对ZrW_2O_8薄膜组成与形态的影响(英文)

摘要

采用射频磁控溅射法在石英基片上制备了厚度约为200nm的ZrW2O8薄膜。在不同温度下对薄膜进行热处理,通过X射线衍射和扫描电镜研究了热处理温度与热处理过程中通氧量大小对ZrW2O8薄膜组分与形态的影响。结果表明:在空气中热处理时,随着热处理温度的升高,薄膜由非晶态转变为晶态;经750℃处理的薄膜组成中ZrW2O8含量增大;热处理温度再升高,ZrW2O8逐步分解直至消失。在热处理过程中通入氧气,能使薄膜ZrW2O8含量增加,晶化效果更好,薄膜的形态更平整;在740℃热处理过程中通氧量达到20.8L/s后,再增加通氧量对薄膜的晶化影响不大。