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马辰卉; 武文革; 伏宁娜; 王昕宇; 成云平; 刘丽娟;
中北大学;
氮化硅薄膜; 沉积参数; 正交试验; 参数优化;
机译:从柠檬酸盐-凝胶法制备的靶材通过脉冲激光沉积制备纯净且完全组织化的Sr_2FeMoO_6薄膜
机译:使用金属粉末靶材通过背面照射脉冲激光沉积制备薄膜
机译:燃烧法制备的单个四元硫化物靶材的脉冲激光沉积Cu2ZnSnS4薄膜
机译:富钾靶材和制备参数对0.95(K 0.48 inf> Na 0.52 inf> NbO 3 inf>)-0.05(LiSbO 3 inf>)薄膜通过脉冲激光沉积
机译:使用脉冲激光沉积从多相靶材制造Heusler合金薄膜。
机译:使用碳纳米管/聚四氟乙烯复合聚合物靶材通过中频溅射制备的氟碳薄膜
机译:微波等离子体增强化学气相沉积法制备氮化硅晶体薄膜
机译:基于氧化锌的溅射靶材,制造相同靶材的方法以及具有使用相同靶材沉积的阻挡层的薄膜晶体管
机译:用于溅射薄膜阴极溅射沉积的靶材,是通过将红外光源通过靶材上方以在铸版或磨损的靶材区域上熔化来生产或再生的
机译:NiSi靶材,靶材,NiSi靶材的制造方法,NiSi薄膜,其制备方法和薄膜元件
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