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刘红梅; 潘应君; 王自荣;
武汉科技大学;
PCVD; 离子氮化; TiCN;
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:用PIPVD方法对功能梯度型锡层和沉积温度对沉积在等离子体氮化H13钢上的TiCN涂层的结构和表面性能
机译:湿度对微波鞘电压复合等离子体PECVD沉积a-C:H和a-C:H:Si薄膜摩擦性能的影响
机译:PECVD沉积氮化硅薄膜的一些关键力学性能研究
机译:等离子增强化学气相沉积(PECVD)系统的设计和实现,该系统用于研究碳60聚合物复合薄膜和表面功能化对碳60的影响
机译:用于研究仪器的pECVD(等离子体增强化学气相沉积)金刚石薄膜
机译:通过将磷注入到pecvd(等离子增强化学气相沉积)-氮化物/氮氧化物-薄膜中来减少非易失性存储单元中的电荷损失
机译:等离子处理化学气相沉积形成的氮化钽化合物薄膜
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