电压对电沉积PbS薄膜结构和性能的影响

摘要

采用阴极恒电压法在ITO导电玻璃表面沉积了PbS薄膜,并用X-射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)以及紫外/可见/近红外光谱仪对薄膜的结构和光学性能进行了表征,研究了沉积电压对薄膜的相组成、显微形貌以及光学性质的影响。结果表明:在U=18 V,pH=2.5,沉积时间为20 min,加入EDTA作络合剂的情况下,可制备出沿(111)和(200)晶面取向生长的立方相PbS薄膜。薄膜组成均匀而致密,对紫外线有较强的吸收作用,而对可见光有较好的透过作用。随沉积电压增加,薄膜的结晶性变好,光吸收性能明显增强。