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徐朝银; 董晓浩; 赵飞云; 高飞; 徐德权; 凤良杰; 阎佐健; 孙继武;
中国科学科技大学国家同步辐射实验室;
沈阳市慧宇应用技术研究所;
离子束刻蚀; 有限元分析; 扫描运动; 束流密度均匀性; 优化设计;
机译:XPS对离子束刻蚀和反应离子束辅助化学刻蚀处理的单晶金刚石芯片损伤评估的研究
机译:正电子an没法在高分子材料中的应用及RI短脉冲低速阳离子束装置的研制
机译:以Bi_3〜+为主要离子并结合Ar簇离子束进行表面刻蚀的Si晶片上Au纳米颗粒的动态二次离子质谱:刻蚀条件对表面结构的影响
机译:使用反应离子束刻蚀和化学辅助反应离子束刻蚀对GaN进行干法刻蚀
机译:低能量,质量分离离子束沉积和反应离子束刻蚀的研究
机译:离子束刻蚀对熔融石英纳米损伤前体演化的影响
机译:强隧道内隧道阻力对聚焦离子束刻蚀制备单电子晶体管电导的影响2。会议文件
机译:离子束刻蚀方法和离子束刻蚀装置
机译:离子束刻蚀方法及离子束刻蚀装置
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