用于离子束刻蚀预热稳定装置及离子束刻蚀预热稳定方法

摘要

本发明涉及用于离子束刻蚀预热稳定装置及离子束刻蚀预热稳定方法，稳定装置包括屏蔽挡板和连接屏蔽挡板的侧面旋转支架，屏蔽挡板和侧面旋转支架位于离子束刻蚀机的真空室舱门内，侧面旋转支架的外端连接旋转操作杆，旋转操作杆的外段为螺纹杆段，旋转操作杆密封穿过真空室外壁，通过连接螺纹杆段的锁紧螺母与真空室舱壁可调节式固定连接；在屏蔽挡板转至竖直状态下，屏蔽挡板与工作台呈平行设置，屏蔽挡板位于工作台的正前方和离子源的离子输出端的后方，在屏蔽挡板转至水平状态下，屏蔽挡板位于工作台的上方。本发明装置结构简单、操作方便，该方法易于实现,解决了加工件蚀槽深超差的问题。