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张巧真; 张继华; 杨传仁; 陈宏伟; 赵强;
电子科技大学薄膜与集成器件国家重点实验室;
BaO-Nd2O3-Sm2O3-TiO2(BNST)薄膜; 射频磁控溅射; 退火温度; 薄膜结构; 介电性能;
机译:用新型退火法退火ZnO薄膜结构和光学性能的退火温度的影响
机译:射频磁控溅射法研究衬底温度和退火温度对Pt薄膜结构,电学和微结构性能的影响
机译:退火温度和退火气氛对磁控溅射蓝宝石(0001)衬底上ZnO薄膜的结构和光学性能的影响
机译:预退火和退火温度对化学溶液沉积制备的多二二种BifeO_3薄膜微观结构和光学性能的影响(CSD)
机译:氢退火和衬底温度对射频溅射氧化锌薄膜性能的影响
机译:原子层沉积生长La2O3薄膜的膜厚和退火温度表征结构性能。
机译:退火温度对硒薄膜一些结构,光学和力学性能的影响
机译:退火条件对Y-Ba-Cu-O薄膜结构和超导性能的影响
机译:一种制造白色薄膜的方法,该薄膜可通过控制其制造过程中的延伸温度,延伸比例和热退火温度来获得具有均匀特性的薄膜
机译:用于薄膜半导体结构的退火,用于薄膜半导体的退火方法,薄膜半导体器件,薄膜半导体器件制造方法和显示器件。
机译:用于退火的薄膜半导体结构,用于薄膜半导体的退火方法,薄膜半导体器件,薄膜半导体器件的制造方法以及显示
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