SiO_2/TiO_2变折射率光学薄膜制造技术研究

摘要

探讨了单源混蒸技术制备SiO2/TiO2变折射率薄膜的可行性,分别蒸发SiO2和TiO2质量比为1∶1和1∶2的混料,研究分析了薄膜折射率的变化情况,并将其与双源共蒸的方法进行了比较。实验中发现,两种材料蒸发方式的差异是影响SiO2/TiO2变折射率薄膜制备的主要因素,尚未发现混料中SiO2和TiO2的质量比与SiO2/TiO2薄膜折射率的对应关联。