複合成膜により成膜された低屈折率SiO_2光学薄膜の光散乱特性

摘要

近年，光学部品に対する性能の向上が求められている．それに伴い，光学薄膜にも角度依存を主とした反射防止性能向上のために，膜の低屈折率化が求められている． 本研究室では，成膜時に圧力が大きく異なる真空蒸着法とスパッタリング法を同一真空容器内に設置して稼働させる複合成膜手法を開発し，SiO_2光学薄膜の低屈折化に成功している1,2)．複合成膜手法では，スパッタリング領域から導入されるガスが薄膜内部に空乏を作る事により膜の屈折率を低減させている．また，光学薄膜には光学的特徴の一つとして光散乱があり，この光散乱により生じる光損失が大きな課題となっている．本研究では低屈折率かつ低散乱のSiO_2光学薄膜を作製することを目的とした．