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周怀恩; 陈光华; 朱秀红; 阴生毅; 胡跃辉;
北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室;
氢化非晶硅; 氢稀释率; 电子回旋共振化学气相沉积; 光敏性;
机译:新型热丝辅助微波电子回旋共振化学气相沉积系统制备高质量氢化非晶硅膜
机译:催化化学气相沉积(Cat-CVD)方法制造非晶硅薄膜技术以及通过瞬时热处理形成用于太阳能电池的高质量多晶硅薄膜
机译:ECR-CVD加工参数对氢化非晶硅(A-Si:H)薄膜沉积均匀性的依赖性
机译:使用ECR-PECVD的氢化非晶硅锗薄膜和器件的高生长速率沉积。
机译:通过PECVD在镍金属化多孔硅上沉积的非晶硅薄膜的结晶
机译:热丝化学气相沉积法优化氢化非晶硅锗薄膜和太阳能电池
机译:等离子体辅助CVD氟化氢化非晶硅。最终技术报告,1979年9月15日至1980年9月15日
机译:使用脉冲状ECR等离子体清洁TFT-LCD的基板和高速沉积高质量非晶非晶硅薄膜的装置和方法
机译:使用热丝灯丝技术以高沉积速率沉积器件质量,低氢含量,氢化非晶硅,并提高稳定性
机译:使用脉冲ECR等离子体的TFT-LCD高质量非晶硅薄膜的快速沉积和衬底清洁设备及方法
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