首页> 中文期刊> 《光电子技术》 >直流反应溅射沉积ITO膜的X射线光电子谱研究

直流反应溅射沉积ITO膜的X射线光电子谱研究

         

摘要

采用 XPS 技术研究了直流磁控溅射 ITO 膜的结构组成及其化学态。分析了成膜工艺——热处理、反应气体 O_2流量等对 ITO 膜表面及内部成分比例的影响。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号