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陈维友; 杨丽颍; 张冶金; 曹晓光; 汪爱军; 刘式墉;
吉林大学电子工程系;
计算机辅助设计; 半导体材料; MOCVD; 外延生长;
机译:基于窄通道反应室的MOCVD衍生的GDYBCO膜的金属有机源的高利用率
机译:垂直旋转ZnO-MOCVD反应室的稳定性和工艺参数优化
机译:上室紫外线杀菌照射的注量率的空间分布:计算机辅助设计工具的实验验证
机译:氮化物MOCVD反应室电磁加热温度场的有限元分析
机译:高压MOCVD反应器中InGaN材料和器件结构的生长
机译:生长过程中的气相化学反应机理高温MOCVD中AlN的热力学研究
机译:在金属有机化学气相沉积(mOCVD)室中使用锗烷前体在硅(001)上生长和表征锗外延膜
机译:用mOCVD制备CaO绝缘体涂层用于聚变反应堆中
机译:MOCVD托盘装置反应室和MOCVD装置
机译:MOCVD原位清洗MOCVD反应室的方法
机译:用于确定MOCVD反应器的处理室的清洁过程结束的方法
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