首页> 中文期刊> 《真空科学与技术学报》 >Monte Carlo计算枧模拟—离子注入双层薄膜中的浓度分布

Monte Carlo计算枧模拟—离子注入双层薄膜中的浓度分布

         

摘要

使用Monte Carlo方法模拟350keVXe^+注入Cu/Ti双层结构,研究界面所造成的离子浓度分布的不连续性,并讨论界面位置对浓度分布的影响。在模拟600keV Bi注入Al/Ti双层结构时,当考虑有界面势存在,则其理论值与实验值符合得更好。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号