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崔江涛; 刘向力; 田修波; 胡新东; 杨士勤;
现代焊接生产技术国家重点实验室哈尔滨工业大学;
深圳研究生院哈尔滨工业大学;
直流磁控溅射; 钽薄膜; 相结构; 耐磨性;
机译:反应性直流磁控溅射沉积氮化钽薄膜的微结构,化学和电学性能研究
机译:直流磁控溅射,脉冲直流磁控溅射和阴极电弧蒸发沉积的Ti膜的结构和性能
机译:直流磁控溅射沉积Ti / C多层膜的微观结构,力学和摩擦学性能
机译:原位光谱椭圆偏振法研究直流反应磁控溅射沉积的硅膜的结晶度和界面结构。
机译:磁控溅射高熵膜的生长机理及沉积参数对结构和性能的影响
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机译:离子辅助沉积在氧化铝基体上沉积银膜的微观结构研究。
机译:RF叠加直流磁控溅射沉积超薄ITO:Ce膜,膜的制备方法和包括其的触摸屏
机译:磁控溅射膜沉积装置及其电极结构
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