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杨树敏; 贺周同; 朱德彰; 巩金龙; 周兴泰;
上海应用物理研究所中国科学院;
中国科学院研究生院;
纳米金刚石薄膜; 热丝化学气相沉积; 压力; Ar浓度;
机译:使用热丝化学气相沉积和Ar / CH_4 / H_2气体混合物沉积超纳米晶金刚石膜的实验和建模:超纳米晶金刚石生长的一般机制
机译:热丝化学气相沉积系统中偏压增强成核和H_2 / CH_4 / Ar混合物的金刚石膜生长动力学
机译:在热灯丝辅助化学气相沉积系统中,使用CH_4 + H_2气体的N_2掺和物生长的金刚石薄膜的形貌逐渐过渡
机译:热丝化学气相沉积法在CH_4 / H_2等离子体中合成碳纳米管的排列特征和机理
机译:热丝化学气相沉积系统中用于生长金刚石膜的表面改性技术的评估
机译:通过热丝化学气相沉积将钒掺杂到纳米晶金刚石膜中
机译:微波测量CH_4 / H_2 / N_2等离子体增强化学气相沉积过程中氮掺杂金刚石薄膜的椭偏研究
机译:通过热丝化学气相沉积在硅上生长金刚石薄膜
机译:微波等离子体辅助化学气相沉积沉积的化学气相沉积在高温下的高温等离子体生长高同质金刚石薄膜沉积
机译:从涂有钛和钴的薄双层薄膜的硅基底上通过化学气相沉积法生长碳纳米管包括在预先涂有双层膜的硅基底上使用热丝
机译:热丝化学气相沉积法合成金刚石或类金刚石薄膜
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