液相外延温控系统与真空系统的全新设计

摘要

对液相外延温控系统和真空系统进行了全新的设计,温控系统运用单相可控硅过零触发技术,解决了移相触发技术中使系统电压畸变,功率因数下降的问题。并配以日本神港程序控制器,使得温度精度达到±0.1℃,且重复性和稳定性也相应地得到提高。真空系统加入了冲洗气体保护装置,有效地解决了以往冷阱变暖使油蒸汽反流的问题。