首页> 中文期刊> 《金属热处理》 >铜在SiH_4/H_2混合气氛中获得的渗硅层的抗氧化性能

铜在SiH_4/H_2混合气氛中获得的渗硅层的抗氧化性能

         

摘要

研究了用硅烷-氢(SiH4/H2)混合气体在铜表面获得的渗硅层的抗氧化性,结果表明,纯铜表面渗硅层的形成提高了材料的抗高温氧化性能。本文对渗硅层的氧化机理进行了探讨。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号