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方远苹; 罗文博; 郝昕; 白晓园; 曾慧中; 帅垚; 张万里;
电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室;
四川成都610054;
成都优蕊光电科技有限公司;
四川成都611731;
铌酸锂(LNO)单晶薄膜; 表面损伤层; Ar^+刻蚀; 晶体质量; 压电性能;
机译:离子注入和离子束刻蚀制造的铌酸锂脊形波导
机译:氩等离子体感应耦合等离子体反应离子刻蚀研究在光滑侧壁薄膜铌酸锂波导中的应用
机译:基于单晶43的薄膜体声波谐振器○Y切割锂铌酸锂薄膜
机译:Ar〜+离子注入的系统金属薄膜―厚铌酸锂基体及其在热释光电探测器生产中的应用研究
机译:有源集成光子器件,位于单晶铌酸锂微片和混合硅锂铌酸盐平台中。
机译:Sm3 +离子的温度依赖性和阈值行为对铌酸锂单晶的荧光性质的影响
机译:离子注入对铌酸锂和钽酸锂上Ni和Pd薄膜近表面结构的影响
机译:用氩(ar),四氟化碳(CF4)和六氟化硫(sF6)混合物反应离子刻蚀钛酸锶钡薄膜的研究
机译:铌酸锂*钽酸锂固体溶液的薄膜单晶的制备
机译:铌酸锂薄膜单晶及其制造方法
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