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黄元盛; 邱万奇; 罗承萍; 黄彩娥;
韶关学院机电系;
华南理工大学机电系;
金刚石; 渗铬层; 化学气相沉积;
机译:在过调制的微波等离子体CVD室中制备具有可控的表面形态,取向和质量的金刚石膜
机译:在不同甲烷浓度下用热丝CVD系统合成的金刚石膜的表面形态,生长速率和质量
机译:CVD金刚石膜的表面形态与沉积条件的关系
机译:DC PJ CVD系统中基底表面温度场上厚金刚石膜的附着力模拟和实验
机译:用有机连接子和DNA功能化的CVD金刚石表面的形态,功能和分子构象研究。
机译:CVD镶嵌单晶金刚石界面结的表面形态
机译:扫描透射电子显微镜(STEM)研究表面修饰的CVD金刚石/ Si(111)膜在植入后与GMR特性相关的Fe-B和NiFe-B
机译:非金刚石基底上的金刚石的假形稳定化:在c-BN(111)表面上的异质外延生长的金刚石。
机译:外延金刚石膜的基底基板,外延金刚石膜的基底基板的制造方法,由该外延金刚石膜的基底基板制造的外延金刚石膜,以及外延金刚石膜的制造方法
机译:由多晶金刚石制成的元件的生产包括模制具有与该元件的表面互补的表面的基底,使用CVD用多晶金刚石涂覆,以及从模具中取出
机译:在碳基底上制造碳化物薄层,在碳化物层上生长金刚石或类金刚石膜并去除碳基底的方法
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