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付萍;
浙江警官职业学院;
超深亚微米; 光刻; 光学邻近效应; 主波; 卷积核;
机译:您的布局密度验证是否准确?一种快速精确的深亚微米密度计算算法
机译:固态:快速电子束光刻:高消隐速度可能使这一新系统成为生产亚微米IC的严峻挑战
机译:评估优化亚阈值设计的途径:深亚微米和超深亚微米区域中的比例大块nMOSFET
机译:使用互补金属氧化物半导体逆变器的超深亚微米和深亚微米技术的性能分析
机译:一种深亚微米单栅极CMOS技术,使用通过快速热化学气相沉积形成的原位掺杂硼的多晶硅锗锗栅极
机译:用于在聚合物基底上生成微米和亚微米图案的微穿孔光刻技术
机译:亚微米成像在248.3nm下:兆张有的光刻性能审查和初始过程性能筛选兆张SNR 248-1.0照片抗蚀剂。
机译:用于微米和亚微米集成电路的高速电子束光刻抗蚀剂,
机译:在不使用具有亚微米尺寸的光刻掩模的情况下进行微米和亚微米图案化
机译:适用于深亚微米微米IC应用的金属化侧壁钝化技术
机译:一种用于测量样品激发荧光质的荧光的装置,其形式为滴液激发荧光质,其基本上平行地包含在两个表面铁砧之间的表面张力的作用下。测量样品激发荧光质的荧光的方法两个基本平行的超细砧座之间的表面张力所包含的纳米粒子的量和用于测量样品受到来自包括低于亚微米级的光源的光的样品的荧光光谱的方法该样品光谱的光源的光谱扩展进行测量以获得荧光光谱
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