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潘伟; 王伟明; 陈健; 黄奇良; 黄勇;
清华大学材料科学与工程系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室;
界面反应; 微观结构; 氮化硅陶瓷; 陶瓷; 钛;
机译:AU / Ti / N-GaAs装置中的屏障高度修改具有由原子层沉积形成的HFO2界面层的HFO2界面层
机译:Si_3N_4 / Ti / Ni / Ti / Si_3N_4的部分瞬态液相键合中的界面反应和扩散路径
机译:Si(111)上具有外延Si_3N_4界面层的高k栅极电介质的电和结构特性
机译:具有高质量超薄Si_3N_4界面层的Pr_3Si_6N_11 / Si_3N_4堆叠式高k栅极电介质
机译:Al / Ti(x)W(1-x)金属/扩散阻挡系统:界面反应路径和动力学随成分和微观结构的变化。
机译:SiGe HBT局部应力过程中Au / Pt / Ti-Si3N4界面缺陷和反应的STEM纳米分析
机译:Cu-Zn-Ti钎料钎焊的Si_3N_4 / Si_3N_4接头的界面微观结构和反应相(材料,冶金和焊接性,JWRI 30周年国际研讨会)
机译:与siC纤维增强Ti3ai + NB复合材料使用铜作为界面层相关的化学相容性问题
机译:包括两个构件的安装结构,所述两个构件通过具有第一界面层和第二界面层的结合材料层彼此结合
机译:形成同一界面的界面层和涂层解决方案
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