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超净高纯试剂的现状、应用、制备及配套技术

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对国内外微电子技术配套专用超净高纯试剂进行了评述

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来源
《化学试剂》 |2002年第3期|142-145|共4页
作者
穆启道;
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作者单位

北京化学试剂研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TQ421.23;
关键词
超净高纯试剂; 应用; 制备; 湿法清洗; 半导体; 刻蚀;

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