用于标定镀膜机的膜厚样板的制备和测量

摘要

镀膜在国民经济生活中得到广泛应用。影响镀膜性能的一个主要参数是膜层在整个基片上的厚度均匀性。利用挡板在基片上多个区域沉积台阶,测量台阶高度的差值用于分析膜厚的均匀性。通过集成非接触聚焦式测头的纳米测量机进行测量,针对镀膜产品上各个特殊的曲面台阶,以参差平方和为标准,用基底无台阶区域的曲线模型拟合台阶底部曲线,参考ISO 5436-1:2000的台阶评价方法,对镀膜基片上多台阶进行了评价。该方法可以用于镀膜机的验收。