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二维铁电开关的Orihara-Ishibashi理论的精确解

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摘要

将Orihara Ishibashi铁电体统计理论用于二维正方形铁电薄膜 ,求出正方形铁电畴反转过程的体积比Q(t)和反转速率dQ/dt的解析表达式 ,并作了数值计算。结果表明 ,最大开关电流随系统尺寸l增大而上升 ,开关时间在系统尺寸l0 .

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来源
《人工晶体学报》 |2002年第2期|107-110|共4页
作者
周青春; 徐荣青; 王茂祥;
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作者单位

华东船舶工业学院基础学科系;

华东船舶工业学院信息与电子系;

东南大学电子工程系;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;
关键词
二维铁电开关; Lrihara-Ishibashi理论; 精确解; 铁电薄膜; 开关电流; 畴;

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