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沈军; 罗爱云; 王生钊; 欧阳玲; 谢志勇; 朱玉梅;
同济大学;
HfO2薄膜; 旋涂工艺; 热处理; 高折射率; 激光损伤阈值;
机译:高激光损伤阈值Ta_2O_5薄膜的制备
机译:溶胶-凝胶ZrO_2-SiO_2高反射多层膜的制备及激光损伤阈值特性
机译:原子层沉积法沉积HfO2 / Al2O3薄膜的光学和激光损伤特性
机译:距离HfO2和SiO2单层薄膜的固有激光损伤阈值更近一步
机译:研究工艺参数变化对离子束溅射Sc2O3和HfO2薄膜的材料性能和激光损伤性能的影响。
机译:用于制造具有高激光诱导损伤阈值的HfO2 / Al2O3薄膜的原子层沉积
机译:电子束蒸发在不同氧分压下制备的ZrO2薄膜的激光损伤阈值
机译:有机溶液和溶胶沉积的高折射率薄膜的1064 nm和350 nm激光损伤阈值
机译:利用光学可接受性添加剂通过以下方法制备的高结晶特性表面光滑陶瓷薄膜的制备方法为零450:
机译:具有软磁特性的具有高磁矩Co-FE-O-N薄膜的写元件的制备方法
机译:高表面光滑特性纤维素酯薄膜及其制备
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