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微分干涉对比显微镜及其在半导体工艺中的应用

         

摘要

本文介绍了日本欧林巴斯BH-M-NIC型反射式微分干涉对比显微镜(以下简称NIC显微镜)的工作原理,及其在硅光导摄象管和集成电路研制过程中的应用.实践证明其性能较好,一些用普通金相显微镜观察不到的硅片表面损伤和缺陷,用NIC显微镜观察,清晰可见,而且犹如彩色浮雕一般富有立体感.同时NIC显微镜还具有黑白和彩色胶片自动照相装置,使用十分方便,这种显微镜是半导体工艺中对硅片镜检观察,发现问题的好工具.

著录项

  • 来源
    《半导体技术》 |1980年第5期|32-35|共4页
  • 作者

    向四化;

  • 作者单位

    1129所;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
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