精缩拼图制作超大芯片掩模版

摘要

＜正＞随着电子工业的迅速发展,集成电路制版已有相当精密的成套设备.图象发生器问世之前,版图设计既使按很小的比例画图,有时其几何尺寸也很大,初缩机稿架比之还将略大才可能使照度均匀.图象发生器的使用园满地解决了大图小稿架的矛盾,但目前国内需要制掩模版的不少行业并未能普遍使用图象发生器加工初缩版,用电子扫描一次作成掩模版的更是曲指可数了.对于目前普遍使用传统工艺设备