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Mansour Moinpour; Ashley Wayman; Ashwani Rawat; Colin T.Carver; Edward E.Remsen;
1. Intel Corporation;
Fab Materials Operation 2. Bradley University 3. Intel Corporation;
Components Research;
机译:制备表面改性的二氧化铈纳米粒子作为应用化学机械抛光的磨料(CMP)
机译:表面控制化学沉积法在锗上制备堆叠的银纳米粒子以进行表面增强红外吸收测量
机译:CMP浆料添加剂在磨料颗粒上的表面吸附
机译:CMP过程中的磨料颗粒轨迹和材料去除不均匀性以及CMP浆料的过滤特性-模拟和实验研究。
机译:单粒子光学显微镜揭示的上转换纳米结构的形态和表面电荷依赖性细胞吸收效率
机译:反射吸收红外光谱法研究表面添加剂对CH3在Rh(111)上化学性质的影响
机译:原子吸收光谱法测定镀铬及抛光液中的铁。
机译:用于CMP抛光液的添加剂液体,CMP抛光液,基质抛光的方法以及电子部件
机译:CMP抛光浆液,CMP抛光浆液的添加剂液体以及使用相同抛光液的基质抛光过程
机译:CMP的CMP抛光液CMP抛光液组及抛光方法
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