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马驰; 李庆忠; 苑晓策;
江南大学机械工程学院;
江苏无锡214122;
化学机械抛光(CMP); 铌酸锂; 精细雾化; 抛光液; 正交试验;
机译:用研磨带开发钛合金抛光液:抛光液中的成分对抛光性能的影响
机译:研究人员提交了专利申请“ Cmp抛光液,衬底的抛光方法和电子元件”以供批准
机译:表面活化结合化学机械抛光减薄铌酸锂晶片的工艺
机译:柠檬酸在钽酸锂化学机械抛光(CMP)中的影响(LIAO_3)晶片
机译:板声波在Z切割锂铌酸锂中的传播:单晶和周期性极化晶片
机译:低温键合法制备的LNOI / Si杂化晶片铌酸锂薄膜层中的残余应力
机译:在定期抛光锂铌酸锂波导中的低温二次谐波产生
机译:电镀抛光液中铬电镀液和磷酸和硫酸中铬酸的在线自动滴定
机译:CMP的CMP抛光液CMP抛光液组及抛光方法
机译:CMP抛光液,CMP抛光液存储液,抛光方法,半导体基体和电子设备
机译:用于CMP的抛光液,用于CMP的抛光液以及抛光方法
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