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张昕曜; 薛剑鸣; 王威; 郝凌云; 支国伟; 赵婷婷;
金陵科技学院材料工程学院;
南京211169;
南京科润工业介质股份有限公司;
南京211106;
Cu2ZnSnS4; 退火工艺; 滴涂法; 薄膜; 纳米墨水;
机译:浸涂法生长的Cu2ZnSnS4薄膜:退火的影响
机译:旋涂热解退火法制备Cu2ZnSnS4薄膜
机译:固溶法退火温度对一步法制备Cu2ZnSnS4薄膜的影响
机译:通过溶胶 - 凝胶旋涂法在不同退火温度下制备TiO_2薄膜的电气和结构性能
机译:原位热退火工艺对脉冲激光沉积制造CDS Cdte薄膜太阳能电池结构,光学和电性能的影响
机译:添加锌和真空退火时间对旋涂低成本1 at%Ga–ZnO薄膜透明导电薄膜性能的影响
机译:退火温度对溶胶 - 凝胶浸涂制备的Al掺杂ZnO薄膜性能的影响
机译:用旋涂技术在si衬底上制备超薄聚苯乙烯,聚丙烯和聚乙烯薄膜
机译:通过在连续涂覆系统的处理室中沉积汽化的蒸发产物和退火工艺来均匀涂覆具有金属背触点的基板,包括在涂覆工艺期间进行退火工艺
机译:滴涂法中目标核酸的捕获和检测性能得到改善
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