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赵鸿滨; 屠海令; 杜军; 张心强;
北京有色金属研究总院先进电子材料研究所;
北京100088;
氧化镧; 电阻转变; 非易失性; 脉冲激光沉积;
机译:La_2O_3掺杂非晶SiO_2薄膜作为栅介电材料的微观结构和介电性能
机译:用于高性能非易失性相变存储器的非晶Ge_1Se_1Te_2薄膜的电开关研究
机译:Ge_2Sb_2Te_5相变存储材料中的压力诱导可逆非晶化和非晶-非晶转变
机译:La_2O_3对激光包覆Fe系非晶复合涂层微观结构和性能的影响
机译:溅射法研究非晶硅薄膜和超晶格薄膜的结构和光电性能
机译:Ge2Sb2Te5相变存储材料中的压力诱导可逆非晶化和非晶-非晶过渡
机译:金属与非晶蒸发Ge薄膜和非晶溅射si薄膜接触的研究
机译:变阻非易失性存储元件的写入方法及变阻非易失性存储装置
机译:通过ALD工艺制造非晶NiO薄膜的方法和使用该非晶NiO薄膜的非易失性存储器件
机译:非晶,透明,可热成型的取向薄膜,用于内部和外部目的,例如基于可结晶的热塑性塑料的覆层,广告,展示和照明均包含紫外线吸收剂和阻气层
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