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王洪国; 陈庆川; 韩大凯; 尹星; 许泽金; 沈丽茹; 金凡亚;
核工业西南物理研究院;
高功率脉冲磁控溅射; 电源; 等离子体放电; Ti膜;
机译:开发用于高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)的脉冲电源,该电源最适合用于医疗用途的类金刚石碳(DLC)膜形成
机译:一种有效的证据和测量高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)的金属离子部分用PT,AU,Pd和混合靶标测量高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)
机译:通过高功率脉冲磁控溅射制备的机械和摩擦学性能和高速钻孔性能,具有不同氮和乙炔通量率的高功率脉冲磁控溅射
机译:具有电弧处理和前沿控制的新型脉冲电源,作为高功率脉冲磁控溅射的启用技术(HPPMS)
机译:用于互连金属化的高功率脉冲磁控溅射和调制脉冲功率溅射的比较。
机译:高功率脉冲磁控溅射
机译:高功率脉冲磁控溅射和脉冲磁控溅射沉积氧化钇稳定氧化锆薄膜
机译:用于重复脉冲功率的高功率密度电容器充电电源开发
机译:在金属镀膜室中用大功率脉冲磁控溅射电源预处理和/或镀膜体,包括使电源脉冲彼此同步,并通过电源产生气体和金属离子
机译:高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)的闪频抑制和脉冲
机译:SP3高功率脉冲磁控溅射工艺,可实现高密度,高SP3含量的层
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