首页> 中文期刊> 《真空科学与技术学报》 >172nm真空紫外光源的研制及驱动特性研究

172nm真空紫外光源的研制及驱动特性研究

         

摘要

通过改进电极引出线以及氟化镁光窗的封接工艺,提高了真空紫外光源器件的可靠性,按照新的工艺流程设计并制作了新型172nm真空紫外光源。在此基础上为了提高真空紫外光源的效率,对方波脉冲及正弦波形激励下的真空紫外光源的放电特性以及辐射特性进行了分析与研究。研究结果表明,172nm真空紫外光源的辐射强度随气压、输入电压以及电源工作频率的升高而升高;采用方波驱动时器件的着火电压较低;在输入功率6.8~8.2W范围内,采用方波驱动时的真空紫外辐射强度是正弦波驱动时的5.5倍。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号