化学气相沉积制备碳化硅涂层的彩色现象原因浅析

摘要

针对化学气相沉积(CVD)法制备碳化硅(SiC)涂层在工程应用中出现的彩色现象,采用扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)、X射线衍射仪(XRD)等分析测试方法,研究了不同空气流量对CVD-SiC涂层表面形貌和组织结构的影响。结果表明:空气中的O_(2)参与反应生成SiO_(2)相是涂层表面出现彩色现象的主要原因;涂层中SiO_(2)含量及涂层厚度的不同使涂层表面呈现彩色时颜色各异;随着空气流量增大,涂层表面SEM形貌由“砂砾状”演变为“菜花状”,最后呈现为“棒状”,导致涂层致密性下降。