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CLDA—700磁控溅射离子镀设备

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编号:C95—2—8DLDA—700磁控溅射离子镀设备中引进电子发射源和活化源,显著提高离化率,技术及设备为国内首创。具有离化率高,基片离化电流增加4—5倍;膜基之间具有很强结合力,划痕试验临界载荷(Lo)可达60

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来源
《中国高校科技》|1995年第2期|P.5-5|共1页
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正文语种 CHI
中图分类电镀工业;
关键词
离子镀; 溅射清洗; 临界载荷; 离化率; 磁控; 划痕试验; 技术及设备; 效益显著; 结合力; 技术特点;

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