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第七届广东省真空学会学术研讨会
第七届广东省真空学会学术研讨会
召开年:
2005
召开地:
广东肇庆
出版时间:
2005-11
主办单位:
中国真空学会;华南理工大学
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1.
掺碳可见光TiO2光催化薄膜的制备及性能初探
吴奎
;
阮广福
;
叶勤
《第七届广东省真空学会学术研讨会》
|
2005年
摘要:
采用物理化学方法低温制备了碳掺杂TiO2薄膜.对薄膜的结构和性能做了表征与分析.XRD结果显示薄膜为锐钛矿结构且没有出现非TiO2结构的特征峰;光响应波长已由纯TiO2薄膜的380nm拓宽到425nm的可见光区;从薄膜表面及深层的X射线光电子能谱都发现Ti-C的特征峰,可知部分掺杂碳是以化合物的状态存在TiO2-xCx薄膜中;薄膜的电镜结果显示薄膜晶粒大小均匀且为纳米量级,同时呈现出比表面积很大的柱状晶结构;与商品的纯TiO2薄膜(PilkingtonActivGlass)相比表现出良好的可见光光催化性能和光致自洁效果.
碳掺杂TiO2薄膜;
光催化薄膜;
物理化学方法;
薄膜结构;
锐钛矿结构;
2.
广东省离子镀硬质膜的进步与展望
袁镇海
《第七届广东省真空学会学术研讨会》
|
2005年
摘要:
近年来,广东省离子镀硬质膜有长足的发展,在镀膜设备升级、镀膜新技术的应用、镀膜产品与新膜系及工艺的开发、膜层性能检测与质量管理水平都有很大的进步;同时,广东的硬质膜市场日益扩大,且出现许多新产品领域,对膜层提出许多新要求,这给硬质膜业界带来新的商机,但技术难度提高也给业界带来新的挑战.广东省离子镀硬质膜技术和产业如何迎接新挑战?作者见闻敷浅,撰写拙文旨在抛砖引玉,望同行一起出谋划策,探讨开拓我省离子镀硬质膜产业更快发展之路。
离子镀;
硬质膜;
镀膜设备;
膜层性能检测;
3.
高反射膜的工艺研究及应用
卢志坚
《第七届广东省真空学会学术研讨会》
|
2005年
摘要:
高反射膜是一种应用非常广泛的重要光学薄膜,在大都数的情况下,对反射膜的要求就是工作光谱内反射率尽可能的高,而在某些特殊场合,不仅要求反射率很高,而且还要求薄膜的吸收很小,因为透射光仍然有用处.对于这两种不同的用场,我们把高反射膜分为金属和介质的两大类.本文介绍,1金属分光膜2.多层全介质高反射膜3.镀制高反射膜的工艺要点。
高反射膜;
光学薄膜;
金属分光膜;
多层全介质高反射膜;
镀膜工艺;
4.
ZAO透明导电薄膜的制备及其特性初探
叶勤
;
吴奎
《第七届广东省真空学会学术研讨会》
|
2005年
摘要:
用射频磁控溅射ZAO陶瓷靶在石英衬底上制备ZAO透明导电薄膜.由XRD、UV-Vis、(SEM)、原予力AFM等手段研究了薄膜的晶体结构、光学禁带宽度、表面和断面形貌与热处理温度的变化关系.结果表明,低温段300℃以下热处理的薄膜c轴较ZnO体材料有拉长现象;高温度段500℃到600℃热处理的薄膜的晶粒直径变化平稳,其中500℃热处理时,c轴也有拉长的效应,且形成良好的c轴趋向柱状晶薄膜;250℃热处理时薄膜的光学禁带宽度最大,薄膜表面均匀致密,晶粒充分团聚结晶。
射频磁控溅射;
ZAO陶瓷靶;
导电薄膜;
晶体结构;
光学禁带宽度;
5.
原子层镀膜技术的新近发展及其在工业中的应用
刘雄英
;
黄光周
;
于继荣
《第七届广东省真空学会学术研讨会》
|
2005年
摘要:
本文首先回顾了ALD发展历史,介绍了ALD的基本工艺和ALD薄膜具有的优良特性,并与传统的薄膜制备工艺进行了对比研究.重点阐述了ALD在微电子技术、微电子机械系统以及光学工程中的几个应用研究现状.分析了ALD目前存在的问题,并对ALD未来的发展进行了展望。
原子层沉积;
自限制;
化学气相沉积;
物理气相沉积;
原子层镀膜;
微电子机械系统;
6.
类金刚石膜的性能及在工模具上的应用
代明江
;
林松盛
;
候惠君
;
李洪武
《第七届广东省真空学会学术研讨会》
|
2005年
摘要:
本文综述了物理气相沉积(PVD)技术制备的类金刚石膜和掺杂金属的类金刚石膜的性能以及在工模具上的应用情况。
类金刚石膜;
膜性能;
工模具;
物理气相沉积;
7.
超硬涂层技术分析
吴越侠
;
边振纶
;
吴大维
《第七届广东省真空学会学术研讨会》
|
2005年
摘要:
本文对提高超硬涂层的质量进行技术分析.采用真空镀膜新技术:孪生靶中频交流磁控溅射、偏压离子镀和离子源是沉积优质膜的基础.为适应高速切削、干切削和难加工材料的切削,在TiAlN的基础上添加更多的合金元素以提高涂层的抗氧化性、韧性和显微硬度.纳米超晶格复合膜和纳米晶-非晶结构的超硬复合膜的出现为设计新的超硬涂层开拓了崭新的领域.完善的和谐的先进沉积工艺是最终获得优质超硬膜的技术保证。
真空镀膜;
薄膜材料;
超硬涂层;
中频交流磁控溅射;
偏压离子镀;
沉积工艺;
8.
离子镀膜中的等离子体行为及其对成膜的影响
田修波
;
骆兆军
《第七届广东省真空学会学术研讨会》
|
2005年
摘要:
本文着重介绍了阴极弧离子镀中,阴极弧的燃烧特性、金属等离子体的产生、电荷态的分布、离子的速度等等离子体行为,并利用TOF技术探讨了反应气体压强对等离子体的影响.同时针对离子镀中工件偏压形成等离子体鞘层等问题,讨论了鞘层的空间尺度、形状等对成膜的影响。
离子镀膜;
等离子体行为;
阴极弧离子镀;
电荷态;
等离子体鞘层;
工件偏压;
9.
光学镀膜技术在IT领域中的应用
范卫星
《第七届广东省真空学会学术研讨会》
|
2005年
摘要:
本文介绍了光通讯滤光片在各阶段的应用形式及通讯系统、子系统的构成,给出了实际测试 的滤光片曲线,同时对离子辅助镀膜技术、生产设备作了介绍。
光学镀膜;
光纤通讯;
FTTH器件;
光通讯滤光片;
离子辅助镀膜;
10.
反应磁控溅射离子镀设备中的关键组件和新技术进展
刘阳
《第七届广东省真空学会学术研讨会》
|
2005年
摘要:
本文结合五金钟表和个人电子用品行业的市场要求,对反应磁控溅射离子镀膜设备中的磁控溅射靶、磁控溅射电源、脉冲偏压电源、离子源及测控装置等关键组件的参数和特性进行详细介绍,对镀膜设备整体设计进行分析,并就其在五金(含塑胶)、手表眼镜等行业的应用效果进行逐项说明.对真空镀膜行业的设备选型和工艺开发提供一定参考.
反应磁控溅射;
离子镀膜;
离子镀设备;
磁控溅射电源;
脉冲偏压电源;
离子源;
真空镀膜;
11.
温度对镀制精密光学薄膜的影响
潘振强
《第七届广东省真空学会学术研讨会》
|
2005年
摘要:
在精密光学膜量产的过程,温度对产品的光学指标、膜层牢固度、稳定性、重复性及一致性起到非常关键的作用.本文研究,1温度的影响,2如何使温度精确控制满足高精密膜的量产,3确保温度的均匀性,4减少监控片与工件的温差。
精密光学薄膜;
温度控制;
光学指标;
膜层牢固度;
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