首页> 中文会议>第七届广东省真空学会学术研讨会 >反应磁控溅射离子镀设备中的关键组件和新技术进展

反应磁控溅射离子镀设备中的关键组件和新技术进展

摘要

本文结合五金钟表和个人电子用品行业的市场要求,对反应磁控溅射离子镀膜设备中的磁控溅射靶、磁控溅射电源、脉冲偏压电源、离子源及测控装置等关键组件的参数和特性进行详细介绍,对镀膜设备整体设计进行分析,并就其在五金(含塑胶)、手表眼镜等行业的应用效果进行逐项说明.对真空镀膜行业的设备选型和工艺开发提供一定参考.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号