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SU-8胶在深紫外光源下的光强分布模拟

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摘要

本文根据菲涅尔衍射的原理，在考虑了折射、光刻胶对光的吸收以及硅片对光的反射的情况下，给出了SU-8胶在365nm光源下经过方孔曝光时，光刻胶中光强的二维分布及三维分布的计算模拟．将试验结果与实际情况相比，表现出了一定的适用性，可以近似作为光刻胶形貌的最后近似．

著录项

来源
《传感技术学报》|2006年第5a期|P.1470-14721476|共4页
作者
冯明; 黄庆安; 李伟华; 周再发; 朱真;
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作者单位

东南大学MEMS教育部重点实验室,南京210096;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类光波传播;
关键词
菲涅尔衍射; 深紫外光强度分布; SU-8胶;

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