首页> 中文期刊>电子器件 >六硼化镧材料的化学腐蚀工艺研究

六硼化镧材料的化学腐蚀工艺研究

     

摘要

目前,阴极发射体材料多存在逸出功大,可靠性及均匀性低,发射性能低、不能自动调节活性物质更替的速度等方面的问题.与之相比,六硼化镧既具有可恒定地维持一个活性阴极表面,同时具有高导电率和良好的热稳定性及化学稳定性,是作为阴极发射体的理想材料[1].而对六硼化镧的化学腐蚀在以其为阴极的阴极发射体制备工艺中起着至关重要的作用,本文简述了对材料的化学腐蚀工艺的初步研究,并得到了图形化的六硼化镧表面.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号