不同化学镀液中p—Si上激光诱导局部沉积铜

摘要

在化学镀铜溶液中，ｐ－Ｓｉ片在波长为５１４．５ｎｍ的激光束的照射下，得到了选择性的铜镀层。采用ＡＥＳ、ＳＥＭ、ＲＢＳ和电学技术对比了在３种含不同还原剂的镀液中得到的镀层的形貌、组成、界面扩散及电学性质，探讨了液相激光诱导化学沉积铜的机理。