等离子体质谱法测定硅片硼磷硅玻璃层中硼磷含量

摘要

@@ 1 引言rn随着国内半导体工业的蓬勃发展,半导体材料及器件中的分析技术也显得越来越重要.在半导体制造过程中,硼磷硅玻璃(BPSG)作为硅片表面的平整介质和钝化层,其中B、P的含量直接影响它的性能.B、P分析方法有多种,如美国Balazs公司采用的是等离子体发射光谱法(ICP-OES).本文用等离子体质谱法(ICP-MS)对B、P进行检测,与Balazs的分析结果对照,效果良好,而且与ICP-OES相比,B、P的检出限降低了1～2个数量级,有很高的实用价值.