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MEMS集成应用的纳米结构PZT厚膜形成工艺研究

     

摘要

提出了制备PZT厚膜的一种新的旋转涂覆方法.采用0-3复合法将PZT溶胶与PZT纳米粉混合形成浆料,并与PZT溶胶交替涂覆在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上,使PZT厚度达2μm,并且使PZT表面质量得到了改善.利用XRD和SEM对PZT厚膜的组织和结构进行了表征.得到的薄膜无裂纹,结晶和表面平整度良好,可用于MEMS中微型传感器和微型驱动器的制作.

著录项

  • 来源
    《高技术通讯》|2006年第6期|606-609|共4页
  • 作者单位

    哈尔滨工程大学材料科学与工程系,哈尔滨,150001;

    黑龙江大学集成电路重点实验室,哈尔滨,150001;

    哈尔滨工程大学材料科学与工程系,哈尔滨,150001;

    黑龙江大学集成电路重点实验室,哈尔滨,150001;

    哈尔滨工程大学材料科学与工程系,哈尔滨,150001;

    哈尔滨工程大学材料科学与工程系,哈尔滨,150001;

    黑龙江大学集成电路重点实验室,哈尔滨,150001;

    北京理工大学材料科学与工程学院,北京,100081;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 通信;
  • 关键词

    nano-PZT; 厚膜; MEMS;

  • 入库时间 2022-08-18 02:11:16

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