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光瞳滤波投影光刻实验研究

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摘要

介绍了一套自行研制的用于光瞳滤波实验的投影光刻实验系统,其物镜光瞳处预留出放滤波器的位置,可方便地取放滤波器.在理论分析的基础上开展了光刻对比实验研究,实验研究结果表明,光瞳滤波能大幅度提高投影光刻成像系统分辨力并增大焦深,是一种比较有效的提高光刻成像质量的波前工程技术.

著录项

来源
《中国学术期刊文摘》|2001年第11期|1451-1453|共3页
作者
石建平; 陈旭南; 康西巧;
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作者单位

中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都,610209;

中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都,610209;

中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都,610209;

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正文语种 chi
中图分类制造工艺及设备;
关键词
光瞳相移滤波; 光刻系统; 分辨力; 焦深;

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