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刘伟杰;
中芯国际集成电路制造(天津)有限公司;
Ti膜的沉积; 阻值; 界面氧化硅TiSi2;
机译:静电场影响下水/二氧化硅和水/蒸汽界面在水/二氧化硅和水/蒸汽界面的形成和迁移:分子动力学研究
机译:炉渣形成过程中界面氧势和炉渣相变对脱磷行为的影响
机译:形成过程中等离子体氮化硅氧氮化硅氧氮化性能的演化
机译:研究4H-碳化硅-碳化硅上低温原子沉积的氧化物及其对碳化硅/二氧化硅界面的影响。
机译:赤铁矿/二氧化硅-天然气界面上的邻苯二酚降解受气体组成和环境持久性自由基形成的影响
机译:碎渣形成过程中界面氧潜能和炉渣相变对磷磷化行为的影响
机译:通过Uv光无孔捕获在硅/二氧化硅界面处形成界面态。
机译:在碳化硅蚀刻停止沉积过程中形成氧化硅界面层,以促进更好的介电堆栈粘附
机译:碳化硅刻蚀停止沉积过程中形成的氧化硅界面层
机译:在碳化硅刻蚀停止沉积过程中形成氧化硅界面层,以促进更好的介电粘合
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