低温磁控溅射与普通多弧离子镀TiN薄膜的摩擦学性能比较

摘要

采用低温磁控溅射和普通多弧离子镀分别在冷作模具钢基体上制备了TiN 薄膜,用纳米压痕法测量了薄膜的表面硬度,并比较了低温磁控溅射与普通多弧离子镀TiN薄膜的摩擦学性能.试验表明,低温磁控溅射TiN薄膜具有与普通多弧离子镀TiN薄膜相近的表面硬度,在多种试验条件下,低温磁控溅射TiN薄膜都有较好的摩擦学性能,摩擦副的磨损率低,摩擦因数小且变化平稳,磨损表面光滑.