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江少群; 马欣新; 唐光泽; 孙明仁; 王刚;
哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,哈尔滨,150001;
薄膜; 磁控溅射; 沉积速率;
机译:Zn与Ti摩尔比对磁控溅射TiO2-ZnO异质复合薄膜微观结构及光催化性能的影响
机译:氮氧比对DC磁控溅射制备的N掺杂TiO2薄膜的N原子位置的影响
机译:Ar / O2气体流量比对直流磁控溅射制备的TiO2薄膜光催化效率的影响
机译:通过磁控溅射沉积的热致变色VO2薄膜,用于智能窗户应用。
机译:直流磁控溅射过程中衬底偏置对VO2薄膜质量及其绝缘体-金属过渡行为的影响
机译:磁控溅射氩气流速比对SnO2薄膜形态学和湿润性能的影响
机译:沉积速率对脉冲激光烧蚀Bi2sr2CaCu2O(8 + x)和Bi2sr(1.6)La(0.4)CuO(66 + x)外延薄膜生长的影响。
机译:具有高沉积速率的磁控溅射源
机译:磁控溅射源具有更高的靶材利用率和沉积速率
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